Сканирующий электронный микроскоп KYKY-EM6900

KYKY-EM6900 — это надёжный и проверенный растровый электронный микроскоп (СЭМ) с термоэмиссионным вольфрамовым катодом, предназначенный для высокоразрешающей микроскопии металлов, керамики, полупроводников, полимеров и других материалов.

Ключевые технические характеристики:

Параметр	Значение
Разрешение (SE)	3 нм @ 30 кВ
Разрешение (BSE)	6 нм @ 30 кВ
Увеличение	8× – 300 000×
Ускоряющее напряжение	0–30 кВ, непрерывная регулировка
Электронная пушка	Вольфрамовый катод, конструкция с откидной крышкой для удобной замены нити накала
Режимы работы	Высокий вакуум / низкий вакуум (10–270 Па)
Детекторы	Вторичные электроны (SE), обратно-рассеянные электроны (BSE)
Интерфейсы	Возможность подключения EDS, EBSD, CL, WDS и других аналитических приставок

Области применения:

Микроструктурный анализ материалов
Фрактография и анализ разрушений
Полупроводниковая инспекция и контроль качества
Исследование полимеров, композитов и катализаторов
Биомедицинские и фармацевтические исследования
Геологоразведка и минералогия

✏️ Электронно-лучевая литография с бланкером

На базе СЭМ KYKY-EM6900 реализована система электронно-лучевой литографии (EBL), позволяющая создавать наноструктуры с субмикронным и нанометровым разрешением.

Ключевые возможности:

Преобразование СЭМ в лабораторный литограф для создания наноструктур
Позиционирование луча с нанометровой точностью на площади более 100 мм²
Управление электронным пучком через высокоскоростной электростатический бланкер (TTL)
Экспонирование резиста по виртуальному шаблону (форматы GDSII, DXF, ASCII, BMP)
Автоматическое и полуавтоматическое совмещение слоёв при многослойной литографии
Коррекция эффекта близости и моделирование проявления резиста

Управляющее программное обеспечение работает на Debian Linux, обеспечивая стабильность, гибкость настройки и полный контроль над процессами сканирования, экспонирования и записи изображений.

Области применения литографии:

Микроэлектроника и наноэлектроника
Создание 3D нано- и микроструктур
МЭМС, датчики и актуаторы
Прототипирование фотонных и плазмонных структур

🧪 Чистые комнаты и центрифуги

Все работы проводятся в чистых помещениях класса ISO 7–5, соответствующих стандарту DIN EN ISO 14644-1. Класс ISO 7 обеспечивает контроль количества частиц на уровне не более 352 000 частиц ≥0,5 мкм на кубический метр, что критически важно для полупроводниковых и нанотехнологических процессов.

Для подготовки образцов используется современное центрифужное оборудование, совместимое с работой в чистых комнатах класса ISO 7, что гарантирует:

Очистку и сепарацию наночастиц и коллоидных систем
Нанесение тонких плёнок резиста перед литографией
Высокую воспроизводимость результатов