АОП ПА-248 (BARC) — polyketon
Главная - Фоторезист - ArF & Krf Dry Imaging - KRF 248nm resist - АОП ПА-248 (BARC)
АОП ПА-248 (BARC)

🎯 Ключевые функции АОП BARC в KrF-литографии

Функция АОП (АнтиОтражающиеПокрытие) BARC похожа на работу черной подложки в фотостудии, которая поглощает лишний свет, чтобы не было бликов и контуры объекта получились четкими. В литографии это реализуется так:

Ключевая проблема без BARC Решение и функция BARC
Отражение от подложки: Свет от KrF-лазера (248 нм), проходя через фоторезист, отражается от различных материалов подложки (например, кремния, металлов, диэлектриков) и возвращается обратно в слой резиста . Поглощение света: BARC наносится непосредственно на подложку под слоем фоторезиста. Он содержит компоненты, которые эффективно поглощают излучение с длиной волны 248 нм, минимизируя отраженный свет .
Эффект качелей (Swing Effect): Интерференция падающего и отраженного света создает колебания интенсивности по толщине резиста. Это приводит к неравномерному проявлению и плохому контролю размеров элементов (CD) . Выравнивание топологии: BARC помогает сглаживать рельеф подложки, создавая более однородную поверхность для нанесения фоторезиста, что также улучшает равномерность экспонирования .
Нежелательное рассеяние (Notching): Отражения от крутых боковых стенок структур на подложке могут вызывать деформацию рисунка (например, образование «зазубрин») . Улучшение профиля: Подавляя отражения, BARC способствует формированию вертикальных и четких профилей в фоторезисте после проявления.
Сложность травления: BARC часто обладает более высокой скоростью травления, чем сам фоторезист . Это позволяет использовать его как точный стоп-слой при последующем травлении основной подложки.

🧪 Типы и состав BARC для KrF

Для KrF-литографии используются

Органические BARC (Spin-on BARC).
Это наиболее распространенный тип.

Жидкий состав наносится центрифугированием, как и фоторезист, после чего отверждается нагреванием с образованием тонкой (часто менее 100 нм) полимерной пленки . Его оптические свойства (коэффициент преломления n и поглощения k) можно точно подбирать под конкретный резист.