ЭФР-400 производства POLYKETONE его импортный аналог (PMMA-495)— это хорошо известный в микро- и нанотехнологиях позитивный резист на основе полиметилметакрилата. Раствор ЭФР-400 в этилацетате используется для его нанесения методом центрифугирования (spin-coating) для формирования однородного полимерного слоя, чувствительного к электронному или ультрафиолетовому излучению.
Ниже приведены ключевые аспекты его применения в технологии фотолитографии и причины выбора этилацетата в качестве растворителя:
| Аспект | Назначение и характеристика |
|---|---|
| Основная задача в фотолитографии | Формирование высокоразрешающего рисунка (часто до десятков нанометров) в процессах электронно-лучевой (ЭЛЛ) и УФ-литографии. Используется для изготовления фотошаблонов (масок) и наноструктур. |
| Тип резиста и технология | позитивный резист: области, облученные электронным пучком или УФ-светом, становятся растворимыми в специальном проявителе и удаляются. |
| Маркировка “400” | Указывает на среднюю молекулярную массу полимера (около 400 000 г/моль), которая определяет вязкость раствора, толщину формируемого слоя и его литографические свойства. |
| Назначение раствора ЭФР-400 в этилацетате | Этилацетат используется как растворитель для приготовления рабочего раствора заданной концентрации (например, 2-6%). Этот раствор наносится на подложку, а растворитель испаряется, оставляя чистый полимерный слой.
|
-
Концентрация раствора: Точную пропорцию ЭФР-400 в этилацетате (обычно 2-6%) нужно уточнить перед заказом.
-
Процесс нанесения: После центрифугирования растворенного ЭФР-400, подложку часто дополнительно отжигают (нагревают) для удаления остатков растворителя и улучшения адгезии.
-
Применение в “взрывной” литографии: В многослойных схемах (например, с ММА 8.5 EL 12) слой ЭФР-400 часто служит верхним, высокоразрешающим слоем.