Негативный электронный резист — это полимерный материал, чья растворимость в определённом проявителе понижается в областях, облучённых электронным пучком. Его основное назначение — формирование защитного рисунка там, где требуется высокая химическая и плазменная стойкость.
— Принцип работы и назначение
При экспонировании электронный пучок вызывает образование поперечных связей между соседними полимерными цепями (процесс сшивания ). Это приводит к образованию плотной трёхмерной сетки, которая становится нерастворимой в проявителе. В результате в проявителе удаляются только неэкспонированные области, а на подложке остаётся рисунок из облучённого, стойкого резиста, в точности повторяющий траекторию электронного луча.
Основные задачи в технологии:
-
Создание стойких к травлению масок для глубокого травления кремния, кварца или металлов.
-
Формирование постоянных полимерных структур (например, для микрофлюидных каналов или элементов MEMS).
-
Применение в процессах, где требуется высокая адгезия и стабильность резиста при агрессивных последующих операциях (ионная имплантация, длительное травление).