Позитивный электронный резист — это полимерный материал, чья растворимость в определённом проявителе повышается в областях, облучённых электронным пучком. Его основное назначение — формирование защитного рисунка для последующего травления или лифт-оффа при изготовлении наноразмерных структур.

— Принцип работы и назначение

При экспонировании электронный пучок разрывает химические связи в полимерной цепи (процесс деполимеризации или разрыва основной цепи), что приводит к уменьшению молекулярной массы в облучённых зонах. Эти области становятся растворимыми и удаляются в проявителе. В результате на подложке остаётся рисунок из неэкспонированного, стойкого резиста, повторяющий «негатив» записанной электронным лучом схемы.

Основные задачи в технологии:

• Создание фотошаблонов и масок для оптической и других видов литографии.

• Прямое формирование наноструктур на подложке (например, в наноэлектронике, для изготовления Т-образных затворов).

• Использование в многослойных системах (например, с резистами типа ММА 8.5 EL 12) для технологий «лифт-офф».

Таким образом, позитивные резисты — ключевой материал для электронно-лучевой литографии, обеспечивающий высокое разрешение при создании микросхем и наноустройств.