Химически усиленный (Chemical Amplified, CA) I-line фоторезист для позитивной литографии — это современный класс светочувствительных материалов, который сочетает работу на длине волны 365 нм с механизмом химического усиления для повышения чувствительности и разрешения.

В отличие от классических позитивных I-line резистов на основе системы DNQ-Novolak, химически усиленные резисты используют каталитическую реакцию, что делает их значительно более эффективными.