Новые разработки

Создание полимерных пленкообразующих композиций с заданными свойствами для микро- и нанолитографии по проектным нормам от 160 до 10 нм (фоторезисты, антиотражающие покрытия, планаризирующий слой)

Проект предполагает замещение импортных фоторезистов, фоторезстами отечественного производства по конкурентным ценам

Этап 1. Разработка полимерных материалов для критических и некритических слоев многослойной структуры под требования технологического процесса с проектными нормами менее 160 нм.

Этап 2. Получение опытных образцов полимерных композиций, тестирование данных материалов на предприятиях производителях ИС. Оптимизация полимерных композиций в соответствии с требованиями и с целью достижения проектных норм 90-60 нм.

Этап 3. Организация опытного производства исходных полимерных материалов и приготовления готовых полимерных композиций для критических и не-критических слоев литографического процесса с проектными нормами менее 90 нм. Формирование ТУ и описания методик синтеза исходных полимерных компонентов. Отработка методик контроля готовых полимерных композиций согласно требованиям микроэлектронной промышленности.